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半导体无尘室操作使用须知
半导体无尘室操作使用须知
处理晶片时,必须戴上无纤维手套,使用清洗过的乾净镊子挟持晶片,请勿以手指或其他任何东西接触晶片,遭碰触污染过的晶片须经清洗,方得继续使用:
(1) 任何一支镊子前端(即挟持晶片端)如被碰触过,或是镊子掉落地上,必须拿去清洗请勿用纸巾或布擦拭脏镊子。
(2) 晶片清洗后进行下一程序前,若被手指碰触过,必须重新清洗。
(3) 把晶片放置於石英舟上,準备进炉管时,若发现所用镊子有污损现象或晶片上有显眼由镊子所引起的污染,必须将晶片重新清洗,并立即更换乾净的镊子使用。
2. 晶片必须放置盒中,盖起来存放於规定位置,儘可能不让它暴露。
3. 避免在晶片上谈话,以防止唾液溅於晶片上,在晶片进扩散炉前,请特别注意,防止上述动作產生,若晶片上沾有纤维屑时,用氮气枪喷之。
4. 从铁弗龙(Teflon)晶舟,石英舟(Quartz Boat)等载具(Carrier)上,取出晶片时,必须垂直向上挟起,避免刮伤晶片,显微镜镜头确已离晶片,方可从吸座上移走晶片。
5. 晶片上,若已长上氧化层,在送黄光室前切勿用钻石刀在晶片上刻记。
6. 操作时,不论是否戴上手套,手绝不能放进清洗水槽。
7. 使用化学站或烤箱处理晶片时,务必将晶片置放於铁弗龙晶舟内,不可使用塑胶盒。
8. 摆置晶片於石英舟时,若晶片掉落地上或手中则必须重新清洗晶片,然后再进氧化炉。
9. 请勿触摸晶片盒内部,如被碰触或有碎晶片污染,必须重作清洗。
10. 手套,废纸及其它杂碎东西,请勿留置於操作台,手套若烧焦、磨破或纤维质变多必须换新。
11. 非经指示,绝不可开啟不熟悉的仪器及各种开关阀控制钮或把手。
12. 奇怪的味道或反应异常的溶液,顏色,声响等请即通知相关人员。
13. 仪器因操作错误而有任何损坏时,务必立刻告知负责人员或老师。
14. 晶片盒进出无尘室须保持乾净,并以保鲜膜封装,违者不得进入。
15. 无尘室内一律使用原子笔及无尘笔记本做记录,一般纸张与铅笔不得携入。
半导体无尘室操作使用须知由KLCFILTER风淋室
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