半导体无尘室操作使用须知处理晶片时，必须戴上无纤维手套，使用清洗过的乾净镊子挟持晶片，请勿以手指或其他任何东西接触晶片，遭碰触污染过的晶片须经清洗，方得继续使用：(1) 任

洁净室纯水系统使用操作方法1.    阀门控制(1)   阀门(VALVE)V1、V2、V3、V4、V6、V8、V10、V12、V13、V14、V16、V17、V19应保持全开。(2)   阀门V5、V7、V11、V18、V21应保持全关

洁净室光罩对对准机使用操作方法曝光机简介    在半导体製程中，涂佈光阻后的晶片，须经UV紫外光照射曝光显影，此臺曝光机為OAI 200系列，整合光罩对準、UV紫外光曝光显影、U

洁净室热蒸镀机使用操作方法A.开机步骤1. 开机器背面的总电源开关。2. 开冷却水，需先啟动D.I Water 系统。3. 开RP，热机2分鐘。4. 开三向阀切至F.V的位置，等2分鐘。5. 开DP，热机30分鐘(热机

洁净室氧化炉管使用操作方法    一般洁净室所採用之氧化炉管為Lenton LTF 1200水平管状式炉子，可放2英吋硅晶圆，加热区大於50cm，高温度可达1200?C并可连续24hr，大操作温度為1150

半导体无尘室黄光区操作及镊子使用须知1. 湿度及温度会影响对準工作，在黄光区应注意温度及湿度，并应减少对準机附近的人，以减少湿、温度的变化。2. 上妥光阻尚未曝光完成之晶片，

无尘车间使用化学药品使用须知1. 化学药品的进出须登记，并知会管理人，并附上物质安全资料表（MSDS）於实验室门口。2. 使用化学药品前，请详读物质安全资料表(MSDS)，并告知管理人。3.

洁净室涂布机使用操作方法1. 首先将PUMP的电源插头插入涂布机后面的电源插座。2. 将涂布机的插头插入110V的电源插座，然后按下【POWER】键。3. 设定旋转的转速及时间，本机型為二段式加速